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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運(yùn)動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，彩色鍍鋁膜加工定做，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，崇陽彩色鍍鋁膜，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，真空彩色鍍鋁膜，有較高的沉積速率，膜的密度高。
鍍鋁膜的特點(diǎn)及應(yīng)用
鍍鋁膜復(fù)合產(chǎn)品具有塑料薄膜的特性;其次表面一層致密的“鍍鋁”有較好的阻隔效果;同時在外觀上也比較鮮艷，pet彩色鍍鋁膜訂做加工多少錢，從而起到美化產(chǎn)品的包裝效果;另外它在一定程度上替代了鋁箔復(fù)合包裝
在軟包裝中使用鍍鋁薄膜主要有以下幾方面的突出優(yōu)點(diǎn)：
首先鍍鋁膜復(fù)合產(chǎn)品具有塑料薄膜的特性；其次表面一層致密的“鍍鋁”有較好的阻隔效果；同時在外觀上也比較鮮艷，從而起到美化產(chǎn)品的包裝效果；另外它在一定程度上替代了鋁箔復(fù)合包裝，從而降低了包裝成本。
（1）鍍鋁膜具有極l佳的金屬光澤和良好的反射性，給人一種富麗華貴的感覺，用它來包裝商品可以起到美化商品、提高商品檔次的作用。
（2）鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強(qiáng)的阻隔性，而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線，可以延長內(nèi)容物的保存期和貨架壽命，因此，對于食品、藥品以及其它一些需要延長保存期的產(chǎn)品來說，采用鍍鋁薄膜作為包裝是一種相當(dāng)不錯的選擇，可以防止由于吸濕、透氧、光線照射等原因而使食品或者內(nèi)容物發(fā)生腐l敗、變質(zhì)等現(xiàn)象。此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過率小，能夠長久保持內(nèi)容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。
正是由于具有以上幾方面的突出優(yōu)點(diǎn)，使得鍍鋁膜的應(yīng)用越來越廣泛，已經(jīng)成為了軟包裝行業(yè)內(nèi)應(yīng)用十分普遍的一種包裝材料。鍍鋁膜的種類很多，目前應(yīng)用多的鍍鋁膜主要是聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP鍍鋁膜（VMCPP），聚酯鍍鋁膜（VMPET）一般用作復(fù)合包裝的中間層，由于其外觀漂亮，在高l檔包裝中應(yīng)用多，如奶粉、茶葉等包裝袋。CPP鍍鋁膜（VMCPP）一般用作復(fù)合包裝的熱封層，常用于普通的小食品（比如餅干）包裝。
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